Ini adalah senyawa asam sulfat pekat, air dan hidrogen peroksida (teroksigenasi) dengan perbandingan 70:30. Kehati-hatian harus diberikan dalam produksi dan hidrogen peroksida harus ditambahkan ke asam dengan sangat lambat, sebaiknya selama pencampuran. Solusi Piranha sering digunakan dalam industri mikroelektronika, SM. untuk membersihkan residu photoresist dari wafer silikon. Ini juga digunakan di laboratorium untuk membersihkan wadah atau tabung kaca.